Search

  • Search

    Dostawa maszyn polerskich do polerowania 4” podłoży azotku galu (GaN)

    Instytut Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk

    Dostawa maszyn polerskich do polerowania 4” podłoży azotku galu (GaN)

    1. Planning notice published

      28. juli kl. 06:1128. juli 2025 kl. 06:11

    2. Planned competition start

      9. sep. kl. 00:009. september 2025 kl. 00:00

    3. Contract start date

      15. okt. kl. 00:0015. oktober 2025 kl. 00:00

    4. Contract end date

      15. juni kl. 00:0015. juni 2026 kl. 00:00

    Brief

    Poland: Tenders/Instytut Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk/Dostawa maszyn polerskich do polerowania 4” podłoży azotku galu (GaN)

    Expired

    The competition has expired without a winner being announced.

    Brief

    Industrimaskiner

    PLEASE SCROLL DOWN FOR THE ENGLISH VERSION Przedmiotem zamówienia jest „Dostawa kilku (do sześciu) maszyn polerskich do polerowania 4” podłoży azotku galu (GaN)”. Maszyny powinny spełniać następujące parametry: Maszyna polerska jednostronna z minimum trójstanowiskowym dociskiem realizowanym pneumatycznie lub inną metodą umożliwiająca obróbkę zgrubną oraz dokładną podłoży GaN o rozmiarze 4”. Waga maszyny powyżej 800 kg. Konstrukcja układu dociskowego musi zapewniać odpowiednią sztywność maszyny: tarczy, jak i siłowników. Siła docisku jednostkowego uchwytu – min. 130 kg Obroty tarczy głównej od 0 do 90 obrotów na minutę lub więcej Tarcza polerska o średnicy – min. 600 mm Maszyna ma zapewniać możliwość równoczesnego polerowania minimum 9 sztuk podłoży 4”. Maszyna musi posiadać możliwość sterowania pojedynczymi siłownikami układów dociskowych. Maszyna wyposażona w programowalną automatykę procesu polerskiego – obroty, obciążenie, podawanie ścierniwa i lubrykantów, czas. Układ montowania podłoży – adhezyjny lub na uchwytach (holderach) Zasilanie 230 V lub 460 V Maszyna wyposażona w obudowę zewnętrzną Maszyna o podniesionej odporności chemicznej (kwasy/zasady) ENGLISH VERSION The subject of the contract is the "Delivery of several (up to six) polishing machines for pol-ishing 4” gallium nitride (GaN) substrates." The machines should meet the following speci-fications: • Single-sided polishing machine with at least a three-head pressure system, operated pneumatically or using another method that enables both rough and fine processing of 4” GaN substrates. • Machine weight: over 800 kg. • The design of the pressure system must ensure adequate rigidity of the machine, in-cluding the platen and actuators. • Unit pressure force of the holder: minimum 130 kg. • Main platen rotation: from 0 to 90 revolutions per minute or more. • Polishing platen diameter: minimum 600 mm. • The machine must allow simultaneous polishing of at least 9 pieces of 4” substrates. • The machine must allow control of individual actuators in the pressure system. • The machine must be equipped with programmable process automation – control of rotation speed, load, slurry and lubricant supply, and processing time. • Substrate mounting system – adhesive or via holders. • Power supply: 230 V or 460 V. • Machine equipped with an external enclosure. • Machine with enhanced chemical resistance (to acids and alkali).

    About the bid

      PLEASE SCROLL DOWN FOR THE ENGLISH VERSION Przedmiotem zamówienia jest „Dostawa kilku (do sześciu) maszyn polerskich do polerowania 4” podłoży azotku galu (GaN)”. Maszyny powinny spełniać następujące parametry: Maszyna polerska jednostronna z minimum trójstanowiskowym dociskiem realizowanym pneumatycznie lub inną metodą umożliwiająca obróbkę zgrubną oraz dokładną podłoży GaN o rozmiarze 4”. Waga maszyny powyżej 800 kg. Konstrukcja układu dociskowego musi zapewniać odpowiednią sztywność maszyny: tarczy, jak i siłowników. Siła docisku jednostkowego uchwytu – min. 130 kg Obroty tarczy głównej od 0 do 90 obrotów na minutę lub więcej Tarcza polerska o średnicy – min. 600 mm Maszyna ma zapewniać możliwość równoczesnego polerowania minimum 9 sztuk podłoży 4”. Maszyna musi posiadać możliwość sterowania pojedynczymi siłownikami układów dociskowych. Maszyna wyposażona w programowalną automatykę procesu polerskiego – obroty, obciążenie, podawanie ścierniwa i lubrykantów, czas. Układ montowania podłoży – adhezyjny lub na uchwytach (holderach) Zasilanie 230 V lub 460 V Maszyna wyposażona w obudowę zewnętrzną Maszyna o podniesionej odporności chemicznej (kwasy/zasady) ENGLISH VERSION The subject of the contract is the "Delivery of several (up to six) polishing machines for pol-ishing 4” gallium nitride (GaN) substrates." The machines should meet the following speci-fications: • Single-sided polishing machine with at least a three-head pressure system, operated pneumatically or using another method that enables both rough and fine processing of 4” GaN substrates. • Machine weight: over 800 kg. • The design of the pressure system must ensure adequate rigidity of the machine, in-cluding the platen and actuators. • Unit pressure force of the holder: minimum 130 kg. • Main platen rotation: from 0 to 90 revolutions per minute or more. • Polishing platen diameter: minimum 600 mm. • The machine must allow simultaneous polishing of at least 9 pieces of 4” substrates. • The machine must allow control of individual actuators in the pressure system. • The machine must be equipped with programmable process automation – control of rotation speed, load, slurry and lubricant supply, and processing time. • Substrate mounting system – adhesive or via holders. • Power supply: 230 V or 460 V. • Machine equipped with an external enclosure. • Machine with enhanced chemical resistance (to acids and alkali).Main features of the procedurePostępowanie będzie prowadzone na podstawie Art. 132 ustawy Prawo zamówień publicznych - Przetarg nieograniczony. Szczegółowe aspekty procedury procedury zostaną zawarte w ogłoszeniu o zamówieniu oraz SWZ. 1. Zamawiający, zgodnie z art. 139 Ustawy, przewiduje odwróconą kolejność czynności. 2. Projektowane postanowienia umowy, w tym informacje na temat płatności stanowi Załącznik nr 6 do SWZ. 3. Postępowanie prowadzone jest w języku polskim i angielskim. Wszelkie oświadczenia, zawiadomienia będą sporządzane w języku polskim i angielskim. Umowa sporządzona będzie w języku polskim i angielskim. Zamawiający prowadzi postępowanie w dwóch językach zgodnie z art. 20 ust. 3 ustawy Pzp, z powodu możliwości poszerzenia kręgu wykonawców i z uwagi na specjalistyczny przedmiot zamówienia. W przypadku rozbieżności pomiędzy obiema wersjami językowymi rozstrzygająca będzie polska wersja językowa.

      Contact name
      Instytut Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk
      Contact phone
      +48 226323628
      Contact email
      dzp@unipress.waw.pl
      Address
      ul. Sokołowska 29/37, 01-142 Warszawa

    Custom Assessment Criteria

    Start a free trial to ask your own questions about the tender and get AI-generated answers.

    Award Criteria

      Found no award criteria in the contract notice.

    Qualification requirements

      Found no qualification requirements in the contract notice.

    Previous Contract Winners

    Start a free trial to see who has won similar tenders for this buyer.

    See the full notice

    Contracting authority
    Instytut Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk
    Title
    Dostawa maszyn polerskich do polerowania 4” podłoży azotku galu (GaN)
    Type
    PlanningPrequalification
    Main code
    42611000Special-purpose machine tools
    Supplemental codes
    42000000Industrial machinery
    Location
    Warszawski wschodni

    Active similar competitions

    • Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej im. A. Krupkowskiego PAN

      Laboratorie-, optisk- og presisjonsutstyr

      Aparatura do wysokociśnieniowej syntezy zaawansowanych materiałów konstrukcyjnych i funkcjonalnych – system nr II - dostawa systemu do wycinania mikrootworów

      Instytut Metalurgii i Inżynierii Materiałowej im. A. Krupkowskiego PAN potrzebuje dostawy laboratoryjnego, stołowego systemu do laserowego wiercenia i mikroobróbki w kompaktowej obudowie, przeznaczonego do wykonywania otworów w materiałach uszczelkowych oraz do przygotowywania próbek i środowisk próbek do eksperymentów z komórką diamentową DAC. System ma umożliwiać precyzyjną obróbkę materiałów, w tym materiałów nieprzewodzących, oraz bezpieczną, w pełni zdalną obsługę jako zamknięte urządzenie laserowe klasy 1. Dostawa ma nastąpić w Krakowie, a czas trwania umowy wynosi 42 dni. Kryteria oceny ofert to cena (60%) i okres gwarancji (40%).

      Competition14. sep. 2026
      15. okt. 2026(5 days)

    • Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Mikroelektroniki i Fotoniki

      Laboratorie- og analyseutstyr

      Dostawa reaktora do epitaksji z wiązek molekularnych MBE związków półprzewodnikowych III-V

      Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Mikroelektroniki i Fotoniki potrzebuje dostawy, instalacji, uruchomienia i testowania reaktora do epitaksji z wiązek molekularnych (MBE) związków półprzewodnikowych III-V wraz z dokumentacją i szkoleniem, z terminem realizacji wynoszącym 24 tygodnie. Dostawa ma nastąpić w Warszawie. Kryteria oceny ofert to cena (40%), jakość (30%) i termin wykonania (30%). Wykonawca musi wykazać, że zrealizował co najmniej jedną dostawę reaktora do epitaksji z wiązek molekularnych (MBE) heterostruktur na bazie supersieci o wartości minimum 8 milionów złotych netto.

      Competition25. sep. 2026
      27. okt. 2026(17 days)

    • Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Lotnictwa

      Laboratorie- og analyseutstyr

      Dostawa dynamicznych maszyn wytrzymałościowych wraz z osprzętem

      Sieć Badawcza Łukasiewicz – Instytut Lotnictwa potrzebuje dostawy dynamicznych maszyn wytrzymałościowych wraz z osprzętem do Warszawy. Czas trwania zamówienia to 4 tygodnie. Kryterium oceny ofert stanowi cena (100%).

      Competition6. okt. 2026
      6. nov. 2026(27 days)

    • Politechnika Warszawska

      Laboratorie- og analyseutstyr

      Dostawa aparatury naukowo-badawczej na potrzeby stanowiska do badania korelacji pomiędzy właściwościami strukturalnymi i elektrycznymi materiałów oraz układów cienkowarstwowych z dyfraktometrem rentgenowskim.

      Centrum Zaawansowanych Materiałów i Technologii CEZAMAT Politechniki Warszawskiej potrzebuje dostawy fabrycznie nowej aparatury naukowo-badawczej do skorelowanych badań strukturalnych, elektrycznych i elektrochemicznych materiałów funkcjonalnych oraz układów cienkowarstwowych, zlokalizowanej w Warszawie. Zamówienie jest podzielone na dwie niezależne części: układ dyfraktometru rentgenowskiego z komorami pomiarowymi i wyposażeniem uzupełniającym oraz stację elektrochemiczną z wielokanałowymi cyklerami bateryjnymi. Dostawa obejmuje instalację, integrację, uruchomienie, kalibrację, testy odbiorowe, dokumentację oraz szkolenie użytkowników, a przewidywany czas realizacji to 20 tygodni. Kryteria oceny ofert to cena (60%), moc źródła promieniowania Cu z rotującą anodą (25%), wydłużenie okresu gwarancji (20%), dodatkowe przeglądy serwisowe po upływie okresu gwarancji (10%) oraz Help Desk po upływie okresu gwarancji (10%).

      Competition24. sep. 2026
      26. okt. 2026(16 days)

    • Politechnika Warszawska

      Laboratorie- og analyseutstyr

      DOSTAWA KOMPLETNEGO SPEKTROMETRU OPTYCZNEJ SPEKTROMETRII EMISYJNEJ Z WYŁADOWANIEM JARZENIOWYM (GD-OES) DO ILOŚCIOWEJ ORAZ PROFILOWEJ ANALIZY WARSTW DLA WYDZIAŁU FIZYKI POLITECHNIKI WARSZAWSKIEJ

      POLITECHNIKA WARSZAWSKA potrzebuje dostawy kompletnego spektrometru optycznej spektrometrii emisyjnej z wyładowaniem jarzeniowym (GD-OES) do ilościowej oraz profilowej analizy warstw dla Wydziału Fizyki Politechniki Warszawskiej. Dostawa ma trwać 6 miesięcy i ma być zrealizowana w Warszawie. Kryteria oceny ofert to: cena (60%), czas reakcji serwisu gwarancyjnego (15%), gwarancja (10%) oraz dostępność części zamiennych i rozwiązań serwisowych (15%).

      Competition9. sep. 2026
      12. okt. 2026(2 days)