F6025 - PROCEDURA APERTA PER LAFFIDAMENTO DELLA FORNITURA DI UN SISTEMA DI ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD) PER LA DEPOSIZIONE DI MATERIALI A FILM SOTTILE PER LA FABBRICAZIONE DI DISPOSITIVI ELETTRONICI.
Awarded
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Simulatorer og trenningsutstyr
L'UNIVERSITÀ DEGLI STUDI DI MODENA E REGGIO EMILIA ha stipulato un accordo con Beneq Oy per la fornitura di un sistema di Atomic Layer Deposition (ALD) per la deposizione di materiali a film sottile per la fabbricazione di dispositivi elettronici, con un valore finale del contratto di 291.799 €. La fornitura è stata aggiudicata in base a criteri di qualità che includevano il massimo spessore del substrato, il numero di contenitori per linee ad alta e bassa pressione di vapore, il numero di linee di sorgenti riscaldate per precursori a bassa pressione di vapore, la temperatura massima di deposizione, i risultati dei test di accettazione in fabbrica e presso l'Università, la disponibilità di una camera di reazione aggiuntiva e la modalità ALD all'ozono, il numero di contenitori aggiuntivi, la presenza di un sistema Loadlock, la fornitura di materiali precursori per il test di accettazione, il test di deposizione dell'ossido di titanio, una pompa a secco aggiuntiva, la durata della garanzia, la possibilità di futuri aggiornamenti hardware e software, la facilità di accesso ai componenti interni per la manutenzione e le dimensioni massime del sistema. Hanno partecipato alla gara 2 offerenti.
Result
- Winner
- Beneq Oy
- Number of bids
- 2
- Contract value
- €291,799
About the bid
- Contact phone
- 059 2058351 - 059 2058358 - 05
- Contact email
- areacontratti@pec.unimore.it
- Address
- Via Università n. 4, 41121 MODENA (MO)
F6025 - PROCEDURA APERTA PER LAFFIDAMENTO DELLA FORNITURA DI UN SISTEMA DI ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD) PER LA DEPOSIZIONE DI MATERIALI A FILM SOTTILE PER LA FABBRICAZIONE DI DISPOSITIVI ELETTRONICI.
Custom Assessment Criteria
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Award Criteria
Description
Massimo Spessore Substrato
Description
Numero di Contenitori per ciascuna linea sia per contenitori ad alta che a bassa pressione di vapore
Description
Numero di linee di sorgenti riscaldate per precursori a bassa pressione di vapore dotati di camicia riscaldata
Description
Temperatura massima di deposizione nella camera di reazione
Description
Numero di contenitori da 200 ml per precursori a bassa e alta pressione di vapore (fino a 8 contenitori)
Description
Risultati positivi del test di Accettazione in Fabbrica
Description
Risultati positivi del test di accettazione eseguito presso l'Università di Modena e Reggio Emilia
Description
Camera di reazione aggiuntiva per campioni di piccole dimensioni
Description
Modalità ALD all'ozono disponibile
Description
Numero di contenitori aggiuntivi (da 9 a 12)
Description
Presenza di sistema Loadlock per il caricamento dei campioni
Description
Fornitura di materiali precursori per il test di accettazione
Description
Test di deposizione dell'ossido di titanio
Description
Pompa a secco aggiuntiva
Description
Durata della garanzia > 12 mesi
Description
Possibilità di futuri aggiornamenti dell'hardware e del software di controllo
Description
Facile accesso ai componenti interni per la manutenzione e la sostituzione dei contenitori
Description
Dimensioni massime del sistema
Description
Offerta economica
Qualification requirements
Found no qualification requirements in the contract notice.
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- Contracting authority
- UNIVERSITA' DEGLI STUDI DI MODENA E REGGIO EMILIA
- Title
- F6025 - PROCEDURA APERTA PER LAFFIDAMENTO DELLA FORNITURA DI UN SISTEMA DI ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD) PER LA DEPOSIZIONE DI MATERIALI A FILM SOTTILE PER LA FABBRICAZIONE DI DISPOSITIVI ELETTRONICI.
- Type
- Main code
- Supplemental codes
- Location
- Modena
- Estimated value
- €393,000.00
No supplemental codes from buyer…