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    Fornitura di un Sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere fotolitografiche e la scrittura diretta di pattern submicromentrici (e-Beam Lithography)

    Amministrazione Centrale - Politecnico di Torino - AQUI Appalti

    Fornitura di un Sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere fotolitografiche e la scrittura diretta di pattern submicromentrici (e-Beam Lithography)

    1. Supplier selection

      Sep 4, 12:00 AMSeptember 4, 2024 12:00 AM
    2. Contract signed

      Dec 9, 12:00 AMDecember 9, 2024 12:00 AM
    3. Result notice published

      Dec 9, 2:02 PMDecember 9, 2024 2:02 PM

    Brief

    Italy: Tenders/Amministrazione Centrale - Politecnico di Torino - AQUI Appalti/Fornitura di un Sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere fotolitografiche e la scrittura diretta di pattern submicromentrici (e-Beam Lithography)

    Awarded

    The competition has ended and a winner has been selected.

    Brief

    Laboratorie-, optisk- og presisjonsutstyr

    Gara europea a procedura aperta ai sensi dell'art. 71 D.lgs. 36/2023 per l'affidamento della fornitura di un Sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere fotolitografiche e la scrittura diretta di pattern submicromentrici (e-Beam Lithography)

    Result

    Winner
    SEMTech Solutions, Inc.
    Number of bids
    1
    Contract value
    €1,050,000

    About the bid

      Gara europea a procedura aperta ai sensi dell'art. 71 D.lgs. 36/2023 per l'affidamento della fornitura di un Sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere fotolitografiche e la scrittura diretta di pattern submicromentrici (e-Beam Lithography)

      Contact phone
      0110906374
      Contact email
      appalti-ue@polito.it
      Address
      Corso Duca degli Abruzzi n. 24, 10100 TORINO (TO)

    Custom Assessment Criteria

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    Award Criteria

    • Description

      Prezzo

    • Description

      Prestazioni e risultati del sistema complessivo.

    • Description

      Criteri relativi alla colonna elettro-ottica.

      Sub-criteria

      Description

      Sistema di Controllo del fascio.

      Description

      Velocità di scansione.

      Description

      Incremento della corrente del fascio.

      Description

      Corrente del fascio.

    • Description

      Criteri relativi alla camera di esposizione.

      Sub-criteria

      Description

      Caratteristiche Porta campioni.

      Description

      Stage per la movimentazione dei campioni.

      Description

      Risoluzione dello stage in XY.

      Description

      Risoluzione dello stage in Z.

      Description

      Caricamento dei campioni.

    • Description

      Estensione garanzia.

    Qualification requirements

      Found no qualification requirements in the contract notice.

    Previous Contract Winners

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    Contracting authority
    Amministrazione Centrale - Politecnico di Torino - AQUI Appalti
    Title
    Fornitura di un Sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere fotolitografiche e la scrittura diretta di pattern submicromentrici (e-Beam Lithography)
    Type
    ResultPrequalification
    Main code
    38636100Lasers
    Supplemental codes

    No supplemental codes from buyer…

    Location
    Torino
    Estimated value
    €1,050,000.00

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    • Amministrazione Centrale - Politecnico di Torino - AQUI Appalti

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      CompetitionOct 12, 2026
      Nov 19, 2026(26 days)
      €549,180
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    • ENEA

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      €468,000