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    Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

    fondazione istituto italiano di tecnologia

    Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

    1. Competition notice published

      Jul 29, 11:12 AMJuly 29, 2026 11:12 AM
    2. Questions deadline

      Sep 14, 9:00 AMSeptember 14, 2026 9:00 AM
    3. Change in competition

      Sep 14, 11:18 AMSeptember 14, 2026 11:18 AM
    4. Tender submission deadline

      Oct 1, 12:00 PMOctober 1, 2026 12:00 PM
    5. Opening date

      Oct 5, 2:00 PMOctober 5, 2026 2:00 PM
    6. Contract start date

      Oct 18, 10:00 PMOctober 18, 2026 10:00 PM
    7. Tender validity period

      Mar 30, 12:00 PMMarch 30, 2027 12:00 PM

    Brief

    Tender search/fondazione istituto italiano di tecnologia/Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
    Brief

    Simulatorer og trenningsutstyr

    L'Istituto Italiano di Tecnologia necessita della fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE) per la sede di Genova, con una durata del contratto di 1 anno e un valore massimo totale stimato di 680.000 EUR. L'aggiudicazione avverrà in base al criterio dell'offerta economicamente più vantaggiosa, individuata sulla base del miglior rapporto qualità/prezzo.

    About the bid

      Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

      Contact phone
      01028961
      Contact email
      tenders@iit.it
      Address
      Via Morego 30 16163 Genova, 16163 Genova

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    Award Criteria

    • Description

      Criterio dell’offerta economicamente più vantaggiosa individuata sulla base del miglior rapporto qualità prezzo, ai sensi dell’art. 108, co. 1 (OEPV) del D.Lgs. 36/2023.

    Qualification requirements

      Found no qualification requirements in the contract notice.

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    Contracting authority
    fondazione istituto italiano di tecnologia
    Title
    Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
    Type
    CompetitionPrequalification
    Main code
    38970000Research, testing and scientific technical simulator
    Supplemental codes

    No supplemental codes from buyer…

    Location
    Genova
    Estimated value
    €680,000.00
    Duration
    12 months

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