Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für Elektronenstrahllithografie
Zuschlag erteilt
Das Vergabeverfahren ist beendet und ein Gewinner wurde ausgewählt.
- Frist
- Jun 30,Abgelaufen
- Verfahrensart
- OffenEinstufig
- Vertrag
- Einkauf von Waren
Brief
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena hat einen Vertrag mit Notion Systems GmbH über die Lieferung einer halbautomatischen Heizplatte zur Temperung großflächiger Substrate für die hochauflösende Elektronenstrahllithografie im Wert von 216.125 € abgeschlossen. Die Anlage dient der definierten Vor- und Nachbelichtung chemisch verstärkter Resists, wobei die zu verarbeitenden Substrate 300-mm-Wafer sowie rechteckige Glassubstrate bis zu 300 mm x 275 mm x 15 mm umfassen.
Laboratorie-, optisk- og presisjonsutstyr
Ergebnis
- NOTION SYSTEMS GMBHGewinner
- 2Anzahl Angebote
- 216.125 €Vertragswert
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Qualifikationsanforderungen
Beschreibung
Allgemeine Unternehmensdarstellung, Firmenname, Rechtsform, Umsatzsteuerident-Nr., Anschrift (Hauptsitz/Niederlassungen/Sitz der Niederlassung, die den Auftraggeber betreuen würde), Telefon-/Faxnummer und E-Mailadresse, Organisationsstruktur des Unternehmens, Geschäftsfelder/-zweige, Leistungsspektrum, Gründungsdatum, Unternehmenshistorie etc.
Dokumentationsanforderung
Nicht angegeben.
Quelle
Keine Quelle in den Unterlagen gefunden. Prüfe die Anforderung anhand der Vergabeunterlagen.
Beschreibung
Nachweis der Eintragung in das Handelsregister oder ein vergleichbares Register nach Maßgabe der Rechtsvorschriften des Landes, in dem das Unternehmen ansässig ist.
Dokumentationsanforderung
Einen aktuellen (nicht älter als 6 Monate) Nachweis der Eintragung in das Handelsregister oder ein vergleichbares Register nach Maßgabe der Rechtsvorschriften des Landes, in dem das Unternehmen ansässig ist.
Quelle
Keine Quelle in den Unterlagen gefunden. Prüfe die Anforderung anhand der Vergabeunterlagen.
Zuschlagskriterien
Beschreibung
1
Quelle
Keine Quelle in den Unterlagen gefunden. Prüfe die Gewichtung anhand der Vergabeunterlagen.
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Aus der Bekanntmachung
Es soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.
Kontakt
vergabestelle@uni-jena.de- ErgebnisTyp
- 38000000HauptcodeLaborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
- 38436310Heizplatten38810000Industrieprozesssteuerungsgeräte42940000Maschinen für die Wärmebehandlung von Stoffen