maskenloses UV-Direktlithographie-System
Zuschlag erteilt
Das Vergabeverfahren ist beendet und ein Gewinner wurde ausgewählt.
- Verfahrensart
- OffenEinstufig
- Vertrag
- Einkauf von Waren
Brief
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena hat mit Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH eine Vereinbarung über die Lieferung eines maskenlosen UV-Direktlithographie-Systems im Wert von 190.785 € geschlossen. Das System ist für den Reinraumeinsatz geeignet und soll für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping eingesetzt werden, wobei es sowohl rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch vektorbasierten Direktbelichtungsmodus für hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen auf unterschiedlichsten Substraten bieten muss. Es gingen zwei Angebote ein.
Laboratorieutstyr og analyseinstrumenter
Ergebnis
- Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbHGewinner
- 2Anzahl Angebote
- 190.785 €Vertragswert
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Qualifikationsanforderungen
Beschreibung
Allgemeine Unternehmensdarstellung, Firmenname, Rechtsform, Umsatzsteuerident-Nr., Anschrift (Hauptsitz/Niederlassungen/Sitz der Niederlassung, die den Auftraggeber betreuen würde), Telefon-/Faxnummer und E-Mailadresse, Organisationsstruktur des Unternehmens, Geschäftsfelder/-zweige, Leistungsspektrum, Gründungsdatum, Unternehmenshistorie etc.
Dokumentationsanforderung
Not specified.
Quelle
Keine Quelle in den Unterlagen gefunden. Prüfe die Anforderung anhand der Vergabeunterlagen.
Beschreibung
Nachweis der Eintragung in das Handelsregister oder ein vergleichbares Register nach Maßgabe der Rechtsvorschriften des Landes, in dem das Unternehmen ansässig ist.
Dokumentationsanforderung
Einen aktuellen (nicht älter als 6 Monate) Nachweis der Eintragung.
Quelle
Keine Quelle in den Unterlagen gefunden. Prüfe die Anforderung anhand der Vergabeunterlagen.
Zuschlagskriterien
Beschreibung
1
Quelle
Keine Quelle in den Unterlagen gefunden. Prüfe die Gewichtung anhand der Vergabeunterlagen.
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Aus der Bekanntmachung
Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2
Kontakt
vergabestelle@uni-jena.de- ErgebnisTyp
- 38000000HauptcodeLaborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
- 38500000Apparate und Geräte zum Prüfen und Testen38580000Nichtmedizinische Röntgenausrüstung38600000Optische Instrumente