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    Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

    EPFL-Scientific Equipment

    Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

    1. Competition notice published

      Oct 2, 10:25 PMOctober 2, 2026 10:25 PM
    2. Tender submission deadline

      Nov 12, 10:59 PMNovember 12, 2026 10:59 PM
    3. Tender validity period

      Apr 21, 9:59 PMApril 21, 2027 9:59 PM

    Brief

    Switzerland: Tenders/EPFL-Scientific Equipment/Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie
    Brief

    L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.

    About the bid

      L’EPFL a l’intention d’acquérir un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi), afin de traiter aussi bien des photomasques carrés que des wafers standards, et de diverses dimensions possibles. Le CMi est une installation de salles blanches dédiée à la micro/nano fabrication, centrale pour l’ensemble des facultés de l’EPFL, ainsi que pour les industriels locaux (>650 utilisateurs actifs par an). Cet équipement sera dédié aux besoins de recherche de pointe en micro et nano fabrication, et plus particulièrement à la gravure de couches de Chrome déposées sur des masques/réticules de lithographie ainsi que sur des wafers. Une grande importance sera accordée non seulement à la qualité des gravures, mais également à comment les contaminations croisées entre différents matériaux sont évitées comme second élément clé pour la flexibilité d’usage prévue pour cet équipement. La facilité d’utilisation de l’équipement, sa simplicité/rapidité d’apprentissage pour les nouveaux utilisateurs et sa flexible mais néanmoins robuste capacité de contrôle de procédés de gravure dans un environnement type R&D sont également de grande importance. La proximité, la réactivité du fournisseur et le support disponible (technique, procédés) seront évalués.

      Contact phone
      +41216931111
      Contact email
      jerome.butty@epfl.ch
      Address
      EPFL AVP-CP ECO BI A2 447 (Bâtiment BI) Station 7, 1015 Lausanne

    Custom Assessment Criteria

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    Award Criteria

    • Description

      Critères d’adjudication

    Qualification requirements

      Found no qualification requirements in the contract notice.

    Previous Contract Winners

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    Contracting authority
    EPFL-Scientific Equipment
    Title
    Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie
    Type
    CompetitionPrequalification
    Main code
    38000000Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
    Supplemental codes

    No supplemental codes from buyer…

    Location
    Vaud

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