Acquisition d'un équipement de gravure plasma pour matériaux isolants et piézoélectriques

Le CNRS-Délégation Centre-Est a besoin d'un équipement de gravure plasma pour matériaux isolants et piézoélectriques pour les besoins de FEMTO-ST, à livrer en Meurthe-et-Moselle et dans le Doubs. Les critères d'attribution sont la valeur technique (51%, dont 31% pour les performances et 20% pour les spécificités techniques), le prix (25%), le service/équipementier (14%, dont 9% pour la maintenance et le support technique et 5% pour l'expérience du fabricant et la qualité du rapport), et la performance environnementale (10%).

Upgrade et automatisation de la machine de pulvérisation cathodique magnétron « Plassys MP 450S »

Le CNRS-Délégation Centre-Est a besoin de services pour l'automatisation et la mise en conformité CE électrique et de sécurité d'une machine de pulvérisation cathodique magnétron « Plassys MP 450S » acquise en 2002. L'objectif est de pérenniser cet équipement en remplaçant le système actuel par un système avec automate et logiciel de pilotage et de supervision, tout en automatisant les mouvements mécaniques clés et en remplaçant les sous-ensembles obsolètes. L'équipement est destiné à des projets de recherche au sein de la centrale de technologie MIMENTO de FEMTO-ST, située dans le Doubs. Les offres seront évaluées sur le prix (34%), la valeur technique (46%), le délai d'exécution et d'indisponibilité de l'équipement (10%) et le développement durable (10%).

Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un système de pulvérisation cathodique dédié au dépôt de couches minces supraconductrices de haute qualité. Cet équipement sera utilisé pour la recherche de pointe dans le domaine des détecteurs de photons uniques, avec pour objectif de permettre le dépôt sur des plaques de 200 mm de diamètre, comblant ainsi l'écart entre la fabrication à l'échelle du laboratoire et celle à l'échelle industrielle. L'équipement sera livré dans le canton de Vaud, en Suisse. Une grande importance sera accordée à la qualité des dépôts, aux propriétés supraconductrices des films minces, à la facilité d'utilisation, à la simplicité/rapidité d'apprentissage pour les nouveaux utilisateurs et à la capacité de contrôle des procédés de dépôts dans un environnement de R&D. La proximité et la réactivité du fournisseur pour le support technique et les procédés sont également des critères importants. Les critères d'adjudication sont basés sur la qualité.

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.

Acquisition, installation et mise en service d’un équipement neuf de préparation de surface et de delaquage de résine

Le CNRS - Délégation Occitanie Ouest a besoin de l'acquisition, de l'installation et de la mise en service d'un nouvel équipement de préparation de surface et de délaquage de résine, avec une garantie de 24 mois, pour une durée de 4 ans et une valeur maximale totale de 190 000 EUR. L'équipement doit être livré en Haute-Garonne. Les critères d'attribution sont la performance technique de l'offre (50%), le prix (30%), le service après-vente et la formation (10%), et la performance environnementale de l'offre (10%).