Acquisition d'un équipement de gravure plasma pour matériaux isolants et piézoélectriques

Le CNRS-Délégation Centre-Est a besoin d'un équipement de gravure plasma pour matériaux isolants et piézoélectriques pour les besoins de FEMTO-ST, à livrer en Meurthe-et-Moselle et dans le Doubs. Les critères d'attribution sont la valeur technique (51%, dont 31% pour les performances et 20% pour les spécificités techniques), le prix (25%), le service/équipementier (14%, dont 9% pour la maintenance et le support technique et 5% pour l'expérience du fabricant et la qualité du rapport), et la performance environnementale (10%).

Acquisition d’une imprimante 3D pour la fabrication à haute cadence d’objets architecturés multi-échelles par photopolymérisation biphotonique

Le CNRS Délégation Alsace a besoin d'acquérir une imprimante 3D pour la fabrication à haute cadence d'objets architecturés multi-échelles par photopolymérisation biphotonique, pour une durée de 16 mois. La livraison et l'installation se feront dans le Haut-Rhin. Les offres seront évaluées sur la valeur technique (50%), le prix (35%), les performances environnementales (7,5%), la qualité du SAV (3%), la formation (2,5%) et les délais de livraison et d'installation (2%).

FOURNITURE D’UN SYSTEME DE LITHOGRAPHIE ELECTRONIQUE

Le CEA Paris-Saclay - Service Marchés Achats (SMA - 91) a besoin d'un système de lithographie électronique pour une durée de 72 mois, à livrer en Essonne. Le marché comprend une partie ferme et 3 options. Les offres seront évaluées sur le prix (40%), la performance technique (30%), le service après-vente (10%) et l'interface et l'environnement logiciel (20%).

Acquisition d’un microscope électronique à balayage avec canon à effet de champ équipé pour la microanalyse X

L'Université de Tours a besoin de l'acquisition d'un microscope électronique à balayage avec canon à effet de champ équipé pour la microanalyse X, pour une durée de 9 mois. La livraison aura lieu en Indre-et-Loire. Les critères d'attribution sont le prix (12,5% et 15%), la valeur technique (32,5% et 30%) et les critères environnementaux (5% et 5%).

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.