Fourniture d’une unité de stockage de plaques nues de 300 mm

Le CEA/GRENOBLE a besoin de la fourniture d'une unité de stockage de plaques nues de 300 mm et des prestations associées, pour une durée de 12 mois. Le projet se déroulera en Isère. Des options sont prévues, incluant une formation de maintenance de premier niveau, une formation de maintenance de niveau avancé, la fourniture d'un transformateur électrique, le transport et l'assurance, ainsi qu'une extension de garantie d'un an supplémentaire. RORZE ENGINEERING GmbH a un contrat similaire aujourd'hui. Le prix n'est pas le seul critère d'attribution.

FOURNITURE D’UN SYSTEME DE LITHOGRAPHIE ELECTRONIQUE

Le CEA Paris-Saclay - Service Marchés Achats (SMA - 91) a besoin d'un système de lithographie électronique pour une durée de 72 mois, à livrer en Essonne. Le marché comprend une partie ferme et 3 options. Les offres seront évaluées sur le prix (40%), la performance technique (30%), le service après-vente (10%) et l'interface et l'environnement logiciel (20%).

Fourniture d’un équipement de criblage biologique automatisé au CEA/Grenoble

Le CEA Grenoble a besoin de la fourniture d'un équipement de criblage biologique automatisé pour une durée de 8 mois, avec plusieurs options obligatoires et facultatives. Les options obligatoires incluent une centrifugeuse, des systèmes facilitant l'utilisation autonome du laveur et du lecteur, et une extension de garantie d'un an. Les options facultatives concernent des solutions informatiques pour la gestion des arrêts et sauvegardes, ainsi qu'une extension de garantie supplémentaire. Le prix n'est pas le seul critère d'attribution.

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.

Goniomètre 4 axes pour diffraction des rayons X

Le CNRS Délégation Régionale Hauts-de-France a besoin d'un système de goniomètre 4 axes (x,y,z,tilt-chi) pour des expériences de diffraction résolue en temps (pompe laser – sonde X) en configuration GIWAXS et transmission, pour une durée de 17 mois. La livraison est prévue dans la Somme. Les critères d'attribution sont le prix (40%), la valeur technique (50%), le délai (5%) et la valeur environnementale (5%).