Search

  • Search

    European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems

    Universiteit Twente

    European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems

    1. Competition notice published

      Apr 14, 9:51 AMApril 14, 2025 9:51 AM

    2. Contract start date

      Aug 18, 12:00 AMAugust 18, 2025 12:00 AM

    3. Contract signed

      Aug 25, 12:00 AMAugust 25, 2025 12:00 AM

    4. Result notice published

      Feb 6, 12:05 PMFebruary 6, 2026 12:05 PM

    5. Contract end date

      Jul 1, 12:00 AMJuly 1, 2026 12:00 AM

    Brief

    Netherlands: Tenders/Universiteit Twente/European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems

    Awarded

    The competition has ended and a winner has been selected.

    Brief

    Laboratorie- og analyseutstyr

    De Universiteit Twente heeft een overeenkomst gesloten met Oxford Instruments GmbH voor de levering van twee nieuwe Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) systemen. Deze systemen, met een totale waarde van 870.000 euro, zijn bedoeld voor het MESA+ Instituut om hun dunnefilmtechnologie en verwerkingscapaciteit te upgraden en te versterken. De systemen zullen worden gebruikt voor het afzetten van (gedoteerde) diëlektrische dunne films, waaronder siliciumdioxide (SiO2), borium-gedoteerd SiO2 (BSG), fosfor-gedoteerd SiO2 (PSG), borium-fosfor-gedoteerd SiO2 (BPSG), spanningsarm siliciumnitride (SiNx), siliciumoxynitride (SiOxNy) en amorf silicium (aSi). Er is één inschrijving ontvangen voor deze aanbesteding.

    Result

    Winner
    Oxford Instruments GmbH
    Number of bids
    1
    Contract value
    €870,000

    About the bid

      The University of Twente is tendering to purchase two new Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition systems. The MESA+ Institute will invest in two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin film technology and processing capacity. The systems will be used for moderate-temperature deposition of low stress thin films. For the following materials:   silicon dioxide (SiO2) boron-doped SiO2 (BSG) phosphorus-doped SiO2 (PSG) boron-phosphorus-doped SiO2 (BPSG) low-stress silicon nitride (SiNx) silicon oxynitride (SiOxNy) amorphous silicon (aSi)

      Contact name
      Camilio Delfgaauw
      Contact phone
      +31534891512
      Contact email
      c.delfgaauw@utwente.nl
      Address
      Drienerlolaan 5, 7522NB Enschede

    Custom Assessment Criteria

    Start a free trial to ask your own questions about the tender and get AI-generated answers.

    Award Criteria

    • Description

      See descriptive document

    • Description

      See descriptive document

    • Description

      See descriptive document

    Qualification requirements

      Found no qualification requirements in the contract notice.

    Previous Contract Winners

    Start a free trial to see who has won similar tenders for this buyer.

    See the full notice

    Contracting authority
    Universiteit Twente
    Title
    European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems
    Type
    ResultPrequalification
    Main code
    38000000Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
    Supplemental codes

    No supplemental codes from buyer…

    Supplemental codes added by Cobrief

    38430000Detection and analysis apparatus
    38540000Machines and apparatus for testing and measuring
    38970000Research, testing and scientific technical simulator
    Estimated value
    €800,000.00

    Active similar competitions

    • Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek TNO

      Industrimaskiner

      Metal/Backend Sputter system- second Tender

      De Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek TNO heeft een aanbesteding uitgeschreven voor de levering van één metal-backend sputtersysteem, geschikt voor het aanbrengen van Ti- en Au-lagen op 6-inch InP-wafers, met een maximale totale contractwaarde van 1.900.000 EUR over 4 jaar. De levering vindt plaats in Nederland. De gunningscriteria zijn volledig gebaseerd op prijs (100%), aangezien TNO alle relevante kwaliteitsaspecten als minimumeisen heeft vastgelegd.

      CompetitionAug 27, 2026
      Oct 8, 2026(0 days)
      €1,900,000

    • Technische Universiteit Eindhoven

      Laboratorieutstyr og analyseinstrumenter

      X-ray Diffraction System for Energy Materials Characterization

      De Technische Universiteit Eindhoven heeft een aanbesteding uitgeschreven voor de levering en installatie van een röntgendiffractiesysteem voor de karakterisering van energiematerialen, inclusief garantie en onderhoud, voor een periode van 3 jaar. De levering vindt plaats in Zuidoost-Noord-Brabant. De gunningscriteria zijn prijs (40%) en kwaliteit (60%).

      CompetitionAug 28, 2026
      Oct 19, 2026(11 days)

    • Technische Universiteit Eindhoven

      Laboratorie- og analyseutstyr

      Wafer Level Reliability Tool

      Technische Universiteit Eindhoven needs a Wafer Level Reliability Tool for a contract duration of 3 years. The tool should be delivered and installed in Zuidoost-Noord-Brabant. Tenders will be evaluated based on Price (50%) and Quality (50%).

      CompetitionSep 29, 2026
      Oct 20, 2026(12 days)

    • Technische Universiteit Eindhoven

      Micro Transfer Printing tool

      De Technische Universiteit Eindhoven heeft een aanbestedingsprocedure gestart voor de levering van een Micro Transfer Printing tool. De looptijd van het contract is 1 jaar. De gunningscriteria zijn kwaliteit (80%) en prijs (20%).

      CompetitionSep 4, 2026
      Oct 15, 2026(7 days)

    • EPFL-Scientific Equipment

      Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

      L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.

      CompetitionOct 3, 2026
      Nov 12, 2026(35 days)