Fourniture d'un dispositif de dépôt métallique et de structuration des matériaux 3D et de lithographie sans masque

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.

Acquisition d’une imprimante 3D pour la fabrication à haute cadence d’objets architecturés multi-échelles par photopolymérisation biphotonique

Le CNRS Délégation Alsace a besoin d'acquérir une imprimante 3D pour la fabrication à haute cadence d'objets architecturés multi-échelles par photopolymérisation biphotonique, pour une durée de 16 mois. La livraison et l'installation se feront dans le Haut-Rhin. Les offres seront évaluées sur la valeur technique (50%), le prix (35%), les performances environnementales (7,5%), la qualité du SAV (3%), la formation (2,5%) et les délais de livraison et d'installation (2%).

FOURNITURE D’UN SYSTEME DE LITHOGRAPHIE ELECTRONIQUE

Le CEA Paris-Saclay - Service Marchés Achats (SMA - 91) a besoin d'un système de lithographie électronique pour une durée de 72 mois, à livrer en Essonne. Le marché comprend une partie ferme et 3 options. Les offres seront évaluées sur le prix (40%), la performance technique (30%), le service après-vente (10%) et l'interface et l'environnement logiciel (20%).