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Spain: Tenders/Rectorado de la Universitat Politècnica de València/Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

  1. Competition notice published

    Oct 23, 9:34 AMOctober 23, 2026 9:34 AM

  2. Tender submission deadline

    Nov 10, 10:59 PMNovember 10, 2026 10:59 PM

  3. Opening date

    Nov 11, 8:00 AMNovember 11, 2026 8:00 AM

  4. Tender validity period

    Nov 25, 10:59 PMNovember 25, 2026 10:59 PM

Brief

Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

Deadline
Nov 10,11 days left
Award
Price only
Procedure
OpenSingle stage
Agreement
Buying goods
Estimated value
€490Kover 15 days

Brief

El Rectorado de la Universitat Politècnica de València necesita suministrar e instalar un sistema de grabado por haz iónico (IBE), con un valor máximo total de 490.000 euros y un plazo de ejecución de 15 días. El equipo se ubicará en la sala blanca del edificio 8F del Centro de Tecnología Nanofotónica de la UPV, en Valencia, y dará servicio a procesos de micro y nanofabricación sobre diversos materiales, con requisitos de precisión, reproducibilidad, control del ángulo del haz, estabilidad, automatización y monitorización continua. La adjudicación se basa exclusivamente en el precio (100 %); para la selección se solicitan datos de cifra anual de negocio y referencias de trabajos realizados.

Elektrisk utstyr og belysning

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  • Description

    Leverandøren må kunne vise til referanseprosjekter / erfaring fra sammenlignbare oppdrag.

    Documentation Requirement

    Leverandøren må dokumentere utførte arbeider.

    Source

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  • Description

    Oferta económica.

    Source

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From the notice

  • El equipo se destinará a la Infraestructura Científica y Técnica Singular (ICTS) MICRONANOFABS, red española de salas blancas de micro y nanofabricación integrada en el Mapa Nacional de ICTS del Ministerio competente en materia de ciencia, de la que forma parte la Infraestructura de Micro y Nano Fabricación del Centro de Tecnología Nanofotónica (NTC) de la Universitat Politècnica de València (UPV), junto con el Centro Nacional de Microelectrónica (CSIC) y la Central de Tecnología del ISOM (UPM). La instalación se ubicará en la Sala Blanca del edificio 8F del NTC-UPV. El Centro de Tecnología Nanofotónica desarrolla procesos de fabricación de dispositivos fotónicos integrados, biosensores, componentes de óptica integrada, dispositivos cuánticos, sistemas microelectromecánicos (MEMS), estructuras microfluídicas y sistemas nanofotónicos sobre una amplia variedad de materiales, incluyendo silicio, nitruro de silicio, vidrio, cuarzo, materiales III-V, materiales dieléctricos y estructuras híbridas. Como ICTS integrada en la red MICRONANOFABS, el NTC-UPV presta servicios de micro y nanofabricación a grupos de investigación nacionales e internacionales, así como a empresas, en el marco de proyectos competitivos, contratos de transferencia tecnológica y prestación de servicios avanzados. Esta condición de infraestructura singular de uso compartido obliga a mantener una dotación instrumental actualizada, robusta y de prestaciones acordes al estado del arte, que permita dar respuesta tanto a las líneas de investigación propias como a la demanda externa de la comunidad científica e industrial, en línea con los objetivos del PERTE Chip para el fortalecimiento de las capacidades nacionales de microelectrónica y fotónica. Muchos de los dispositivos que se fabrican en la infraestructura requieren procesos de grabado físico de elevada precisión sobre materiales para los que los procesos convencionales de grabado químico (húmedo) no proporcionan la calidad superficial, anisotropía o selectividad necesarias. Asimismo, la creciente complejidad de los dispositivos desarrollados exige disponer de procesos altamente reproducibles, con control preciso del ángulo de incidencia del haz, elevada estabilidad del proceso, automatización y monitorización continua.

  • Contact

    Rectorado de la Universitat Politècnica de Valènciacontratacion@upv.es
  • Type
    Competition
  • Location
    Valencia/València
  • Main code
    Microelectronic machinery and apparatus and microsystems
    31712000

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