Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

El presente informe tiene por objeto justificar la necesidad e idoneidad de la contratación del suministro, instalación, puesta en marcha, validación y formación asociada a un sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW), de acuerdo con lo establecido en el artículo 28 de la Ley 9/2017, de 8 de noviembre, de Contratos del Sector Público (LCSP), por la que se transponen al ordenamiento jurídico español las Directivas del Parlamento Europeo y del Consejo 2014/23/UE y 2014/24/UE, de 26 de febrero de 2014, así como en los preceptos concordantes que exigen la elaboración de un informe de insuficiencia de medios, necesidad e idoneidad del contrato con carácter previo al inicio del expediente de contratación. El equipo se destinará a la Infraestructura Científica y Técnica Singular (ICTS) MICRONANOFABS, red española de salas blancas de micro y nanofabricación integrada en el Mapa Nacional de ICTS del Ministerio competente en materia de ciencia, de la que forma parte la Infraestructura de Micro y Nano Fabricación del Centro de Tecnología Nanofotónica (NTC) de la Universitat Politècnica de València (UPV), junto con el Centro Nacional de Microelectrónica (CSIC) y la Central de Tecnología del ISOM (UPM). La instalación se ubicará en la Sala Blanca del edificio 8F del NTC-UPV. El Centro de Tecnología Nanofotónica desarrolla actividades de investigación y fabricación en los ámbitos de la fotónica integrada, la nanotecnología, la biosensórica, la microóptica y los sistemas microfluídicos. Entre los dispositivos que se fabrican de forma habitual se incluyen circuitos fotónicos integrados (PICs), biosensores fotónicos, nanoantenas, resonadores ópticos, cristales fotónicos, elementos ópticos difractivos, metalentes y microlentes, estructuras tridimensionales obtenidas mediante litografía Gray Scale, dispositivos MEMS, sistemas microfluídicos, y encapsulados y componentes híbridos fotónicos. Estos dispositivos requieren combinar procesos de fabricación con resoluciones nanométricas y micrométricas, elevados niveles de precisión geométrica, alineamiento multicapa y una elevada productividad que permita fabricar dispositivos completos y obleas en tiempos compatibles con la actividad investigadora y la prestación de servicios tecnológicos. Por ello, es necesaria la adquisición de un sistema de litografía que ofrezca simultáneamente una elevada resolución, gran velocidad de escritura, estabilidad mecánica, precisión de posicionamiento y versatilidad para trabajar sobre una amplia variedad de materiales y tamaños de sustrato. Como ICTS integrada en la red MICRONANOFABS, el NTC-UPV presta servicios de micro y nanofabricación a grupos de investigación nacionales e internacionales, así como a empresas, en el marco de proyectos competitivos, contratos de transferencia tecnológica y prestación de servicios avanzados. El equipo formará parte de la infraestructura científica del centro y será utilizado para el desarrollo de proyectos de investigación nacionales e internacionales, contratos de transferencia tecnológica con empresas y prestación de servicios de fabricación a usuarios internos y externos. Esta condición de infraestructura singular de uso compartido obliga a mantener una dotación instrumental actualizada, robusta y de prestaciones acordes al estado del arte, en línea con los objetivos del PERTE Chip para el fortalecimiento de las capacidades nacionales de microelectrónica y fotónica La contratación resulta, por tanto, necesaria para el cumplimiento y realización de los fines institucionales de la ICTS MICRONANOFABS-NTC, no existiendo medios propios adecuados, suficientes y disponibles para atender esta necesidad, en los términos exigidos por el artículo 28 LCSP