Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.

Un système XPS de pointe équipé d'une source UV pour l'UPS, d'un canon à ions monoatomiques et d'un canon à agrégats gazeux pour le profilage en profondeur

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un système XPS de pointe équipé d'une source UV pour l'UPS, d'un canon à ions monoatomiques et d'un canon à agrégats gazeux pour le profilage en profondeur. Cet instrument, destiné à environ 40 groupes de recherche de l'ISIC, de l'IMX et d'autres entités de l'EPFL, doit être facile à manipuler, limiter les erreurs et permettre une rotation rapide entre les utilisateurs. Il doit offrir un large éventail de fonctionnalités, être ouvert aux futures mises à niveau et être livré dans le canton de Vaud.

Un microscope à illumination structurée pour la Plateforme BioImaging & Optics

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un microscope à illumination structurée pour la Plateforme BioImaging & Optics (PTBIOP) de la Faculté des Sciences de la Vie (SV) en Suisse. Ce système doit être un microscope à illumination structurée de dernière génération, offrant une résolution supérieure à la limite de diffraction, une haute sensibilité pour l'imagerie d'échantillons biologiques exigeants, et être flexible et simple d'utilisation pour une large gamme d'applications. Les critères d'attribution sont basés sur la qualité.

Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un système de pulvérisation cathodique dédié au dépôt de couches minces supraconductrices de haute qualité. Cet équipement sera utilisé pour la recherche de pointe dans le domaine des détecteurs de photons uniques, avec pour objectif de permettre le dépôt sur des plaques de 200 mm de diamètre, comblant ainsi l'écart entre la fabrication à l'échelle du laboratoire et celle à l'échelle industrielle. L'équipement sera livré dans le canton de Vaud, en Suisse. Une grande importance sera accordée à la qualité des dépôts, aux propriétés supraconductrices des films minces, à la facilité d'utilisation, à la simplicité/rapidité d'apprentissage pour les nouveaux utilisateurs et à la capacité de contrôle des procédés de dépôts dans un environnement de R&D. La proximité et la réactivité du fournisseur pour le support technique et les procédés sont également des critères importants. Les critères d'adjudication sont basés sur la qualité.

Acquisition d'un module de puissance doté d'un système de commande associé en vue de la mise en place d'une alimentation haute tension

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un module de puissance doté d'un système de commande associé pour la mise en place d'une alimentation haute tension. Ce module est destiné aux sources de micro-ondes à gyrotron utilisées dans les centrales de fusion nucléaire (tokamaks et stellarateurs), et doit offrir des performances, une flexibilité et une polyvalence opérationnelle accrues. Il devra être capable de fonctionner en continu à sa puissance nominale, et en mode pulsé jusqu'à trois fois la puissance nominale. Le lieu de livraison est Vaud. Les critères d'attribution sont basés sur la qualité.