Vorinformation – Beschaffung eines Elektronenstrahl-Verdampfungssystems für Halbleiterprozesse

Vorinformation – Beschaffung eines Atomic Layer Etching Systems

Die Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik plant die Beschaffung eines Atomic Layer Etching Systems (ALE) zur präzisen und materialschonenden Ätzung von III-V-Halbleitern, um bestehende Prozessketten im Bereich der Mikro- und Nanostrukturierung zu erweitern und weiterzuentwickeln. Es handelt sich um die Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer solchen Anlage. Oxford Instruments GmbH hat heute einen ähnlichen Vertrag.

Prior Information Notice – Laser Manufacturing System for Wafer Processing

Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik is planning the procurement of a laser-based manufacturing system for advanced wafer processing, which will be used for various opto-mechanical processing steps including wafer dicing, laser ablation of thin layers, via drilling for backside processes, and laser-based decomposition of bonding layers. The system must be capable of processing different semiconductor materials such as SiC, GaN, Si, GaAs and InP for wafer sizes up to 200 mm, and comply with ISO class 5 requirements, including laser protection class 1. The estimated maximum total contract value is 1,292,000 EUR.

Prior Information Notice – Sputter Deposition

Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik is planning the procurement of a sputter deposition system for depositing metallic and insulating thin films on semiconductor wafers up to 200 mm in diameter, to support advanced heterogeneous integration technologies. The system needs to be a multi-chamber cluster system with integrated cleaning and deposition capabilities, compatible with semiconductor manufacturing requirements for installation in a cleanroom environment. The estimated maximum total contract value is 4,128,000 EUR.

Prior Information Notice – Maskless Laser Lithography System

Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik is planning the procurement of a high-performance maskless laser lithography system for high-resolution patterning of semiconductor wafers to support the development of advanced heterointegration technologies. The system must provide sub-micron precision combined with high throughput, support modern multi-beam laser writing technologies, and comply with ISO class 5 requirements for installation in a cleanroom environment. The estimated maximum total contract value is 510,000 EUR.

Prior Information Notice – Eddy Current Wafer Mapping System

Das Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik, plant die Beschaffung eines Wirbelstrom-Wafer-Mapping-Systems zur zerstörungsfreien elektrischen Charakterisierung von Halbleiterwafern während der Verarbeitung, einschließlich Flächenwiderstands- und Leitfähigkeitsmessungen. Das System soll die Prozessüberwachung und Qualitätskontrolle in der fortschrittlichen Halbleiterfertigung unterstützen. Der geschätzte maximale Gesamtauftragswert beträgt 248.000 EUR.