Un système XPS de pointe équipé d'une source UV pour l'UPS, d'un canon à ions monoatomiques et d'un canon à agrégats gazeux pour le profilage en profondeur

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un système XPS de pointe équipé d'une source UV pour l'UPS, d'un canon à ions monoatomiques et d'un canon à agrégats gazeux pour le profilage en profondeur. Cet instrument, destiné à environ 40 groupes de recherche de l'ISIC, de l'IMX et d'autres entités de l'EPFL, doit être facile à manipuler, limiter les erreurs et permettre une rotation rapide entre les utilisateurs. Il doit offrir un large éventail de fonctionnalités, être ouvert aux futures mises à niveau et être livré dans le canton de Vaud.

Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services needs a new scanning electron microscope (SEM) equipped with a field emission gun, secondary electrons detector (SE) and high-performance backscattered electron detectors (BSE), and a state-of-the-art large area (≥ 100 mm2) energy dispersive spectrometer (EDS) for imaging and quantitative analysis in geological samples. The instrument should have a large chamber to allow a minimum of 3 petrographic thin sections and 6 one-inch epoxy round mounts, and be programmable for automated quantitative EDS analyses lasting over 24 hours. The main goal is to provide precise and accurate quantitative analyses by EDS using a rigorous quantification protocol. The delivery location is Zürich. Offers for panchromatic and/or entry-level monochromatic cathodoluminescence detectors are also welcome. The award criteria are based on quality.

PSI PV-Anlagen Contracting Etappe 2

Das Paul Scherrer Institut benötigt die Planung, Installation und den Betrieb von Photovoltaikanlagen im Kanton Aargau. Die genauen Leistungen sind im Dokument "PSI PV-Anlagen Contracting Etappe 2 Leistungsverzeichnis.pdf" beschrieben. Die Vergabe erfolgt nach Qualitätskriterien.

Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services needs an ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system for the B & R Nanotechnology Center (BRNC) in Zürich. The system will be used for research activities, including generating high-precision nanometer-level structures and rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training, and acceptance of the system. The award criteria are based on quality.

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.