Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services needs a new scanning electron microscope (SEM) equipped with a field emission gun, secondary electrons detector (SE) and high-performance backscattered electron detectors (BSE), and a state-of-the-art large area (≥ 100 mm2) energy dispersive spectrometer (EDS) for imaging and quantitative analysis in geological samples. The instrument should have a large chamber to allow a minimum of 3 petrographic thin sections and 6 one-inch epoxy round mounts, and be programmable for automated quantitative EDS analyses lasting over 24 hours. The main goal is to provide precise and accurate quantitative analyses by EDS using a rigorous quantification protocol. The delivery location is Zürich. Offers for panchromatic and/or entry-level monochromatic cathodoluminescence detectors are also welcome. The award criteria are based on quality.

Electron Beam Lithography (EBL) Tool

Lunds universitet needs an Electron Beam Lithography (EBL) Tool, including associated costs such as warranty, installation, training, and support, for a maximum total value of 26 million SEK. The instrument is intended for high-resolution, repeatable patterning with a large writing field and automated self-calibration routines, capable of handling samples from small pieces to 8" wafers, to be delivered in Skåne län. The award criterion is price.

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi) en Suisse, dans le canton de Vaud. Cet équipement est destiné à la recherche de pointe en micro et nano fabrication, notamment pour la gravure de couches de Chrome sur des masques/réticules de lithographie et des wafers de diverses dimensions. Une grande importance est accordée à la qualité des gravures, à la prévention des contaminations croisées, à la facilité d'utilisation et à la flexibilité du contrôle des procédés dans un environnement de R&D. La proximité, la réactivité et le support du fournisseur seront également évalués.

Un système XPS de pointe équipé d'une source UV pour l'UPS, d'un canon à ions monoatomiques et d'un canon à agrégats gazeux pour le profilage en profondeur

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un système XPS de pointe équipé d'une source UV pour l'UPS, d'un canon à ions monoatomiques et d'un canon à agrégats gazeux pour le profilage en profondeur. Cet instrument, destiné à environ 40 groupes de recherche de l'ISIC, de l'IMX et d'autres entités de l'EPFL, doit être facile à manipuler, limiter les erreurs et permettre une rotation rapide entre les utilisateurs. Il doit offrir un large éventail de fonctionnalités, être ouvert aux futures mises à niveau et être livré dans le canton de Vaud.

Un microscope à illumination structurée pour la Plateforme BioImaging & Optics

L'EPFL-Scientific Equipment a besoin d'un microscope à illumination structurée pour la Plateforme BioImaging & Optics (PTBIOP) de la Faculté des Sciences de la Vie (SV) en Suisse. Ce système doit être un microscope à illumination structurée de dernière génération, offrant une résolution supérieure à la limite de diffraction, une haute sensibilité pour l'imagerie d'échantillons biologiques exigeants, et être flexible et simple d'utilisation pour une large gamme d'applications. Les critères d'attribution sont basés sur la qualité.