Upgrade of a 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber to WxZ Sprint Configuration
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Anleggsmaskiner og utstyr
IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik benötigt die Aufrüstung eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems des Herstellers Applied Materials Inc. (AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Dies beinhaltet Anpassungen am Gasverteilungssystem für einen gepulsten Wolfram-Abscheidungsprozess sowie die Integration zusätzlicher Hardware für Depositionsdrücke bis 300 Torr. Die Leistungen umfassen Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung der Hard- und Softwareanpassungen am bestehenden Anlagensystem. Die Lieferung und Installation erfolgt in Frankfurt (Oder).
Über das Angebot
- Kontaktperson
- Beschaffung
- Kontakttelefon
- +49 335-5625337
- Kontakt-E-Mail
- vergabestelle@ihp-microelectronics.com
- Adresse
- Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder)
Gegenstand der Beschaffung ist das Upgrade eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems des Herstellers Applied Materials Inc. (AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Hierzu sind insbesondere Anpassungen am Gasverteilungssystem zur Realisierung eines gepulsten Wolfram-Abscheidungsprozesses sowie die Integration zusätzlicher Hardware zur Ermöglichung von Depositionsdrücken bis 300 Torr erforderlich. Die Leistungen umfassen die Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung der erforderlichen Hard- und Softwareanpassungen am bestehenden Anlagensystem.
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Qualifikationsanforderungen
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- Auftraggeber
- IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik
- Titel
- Upgrade of a 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber to WxZ Sprint Configuration
- Typ
- Hauptcode
- Zusätzliche Codes
- Ort
- Frankfurt (Oder), Kreisfreie Stadt